紫外線(UV)照射によるポルフィリンからの活性酸素の発生

　標準ポルフィリンに紫外線を照射し、発生する活性酸素ラジカルの種類およびその量をESR(電子スピン共鳴装置)にて検討しました。その結果、酸性条件での発生は少なく、中性条件下での多くの発生を確認しました。すなわち、ヒドロキシルラジカル(･OH)はウロポルフィリン (UP)ⅠおよびⅢ型が、一重項酸素(１O2)はコプロポルフィリン(CP)ⅠおよびⅢ型に多く、スーパーオキシドラジカル(O2-)はプロトポルフィリン(PP), CPⅠ、UPⅠからの発生が認められました。
（出典：市川勇、近藤雅雄：ポルフィリン2(2):93-102,1993.フリーラジカルとポルフィリン代謝に関連する皮膚の老化機構解明に関する基礎的研究．コスメトロジー研究報告Vol4/‛96:58-65,1996.）




（近藤雅雄、2025年3月30日掲載）